在线工博会
返回
Allwin21 半导体技术发展有限公司
公司信息 产品/服务 公司新闻

保护气氛热处理炉(快速退火炉)-AG Associates Heatpulse
AccuThermo AW 610保护气氛快速退火炉半导体设备原形是AG Associates Heatpulse 610，是台式手动快速热处理系统，它用高强度的可见光加热单片Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，晶片加工尺寸2英寸到6英寸（圆形，方形，多边形或不定形）。因其独特的水冷腔体设计、先进的温度控制技术和独有的AW900软件控制系统，确保了极好的热均匀性，优越于传统的炉管工艺和其他RTP系统。


保护气氛快速退火炉AccuThermo AW 610

主要特点：

AccuThermo AW 610保护气氛快速退火炉半导体设备原形是AG Associates Heatpulse 610，是台式手动快速热处理系统，它用高强度的可见光加热单片Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，晶片加工尺寸2英寸到6英寸（圆形，方形，多边形或不定形）。因其独特的水冷腔体设计、先进的温度控制技术和独有的AW900软件控制系统，确保了极好的热均匀性，优越于传统的炉管工艺和其他RTP系统。



设备及供应特点：

· 设计技术经过30多年40多个国家上千位客户的认证

· 精确的温度控制部件：ERP 高温计（AG Associates 专利产品，可选）
· 晶圆尺寸：2〞，3〞，4〞，5",6"
· 单片闭环温度控制，控温传感器可选高温计或者热电偶
· 精确的时间温度模型满足特定的工艺要求
· 传统技术无法达到的快速升温和降温控制
· 工艺重复性高
· 设备稳定性高
· 设备很容易维护
· 本地经培训合格的工程师提供24/7 ON CALL 服务
· 在本地设备件仓库
先进的AW 900控制软件系统：

· 工艺全程控制
· 实时图形界面显示
· 实时工艺参数采集、显示和分析
· 软件控制的系统校准和故障诊断
工艺用途：

· 离子注入激活
· 硅化物合金退火
· 欧姆接触快速合金
· 氧化物生长
· 砷化镓工艺
· 其他快速热处理工艺
应用领域：

· 晶圆工厂
· 化合物产业：GaAs、GaN、GaP、GaInP、InP、SiC
· 光电领域：Planar optical waveguides，Lasers，LEDs and VCSELs
· MEMS
· 纳米技术
· 太阳能电池
联系方式
Allwin21 半导体技术发展有限公司
地址：3251 Leonard Court Santa Clara,CA 95054
电话： 请点击此处与厂家联系
电脑版 客户端 关于我们
佳工机电网 - 机电行业首选网站