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Allwin21 半导体技术发展有限公司
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等离子去胶机、扫底膜 、刻蚀半导体设备
等离子去胶机、扫底膜 半导体设备

我们供应以下等离子干法去胶机、扫底膜设备：

Matrix 105R
Matrix 105
Gasonics Aura 1000
Gasonics Aura 2000LL
Gasonics Aura 3000
Gasonics Aura 3010
Gasonics L3510
Branson IPC 3000
Branson IPC L3200

等离子刻蚀 半导体设备

我们供应以下等离子干法刻蚀设备：

Tegal 901e
Tegal 903e
Tegal 901e TTW
Tegal 903e TTW
Lam Research AutoEtch 490
Lam Research AutoEtch 590
Lam Research AutoEtch 690
Lam Research AutoEtch 790
Lam Research Rainbow 4420
Lam Research Rainbow 4520
Lam Research Rainbow 4620
Lam Research Rainbow 4720
Lam Research Rainbow 4428
Lam Research Rainbow 4528
Lam Research Rainbow 4628
Lam Research Rainbow 4728
Matrix 303
Gasonics AE 2001
Surface Tech Sys(STS) ICP RIE
联系方式
Allwin21 半导体技术发展有限公司
地址：3251 Leonard Court Santa Clara,CA 95054
电话： 请点击此处与厂家联系
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