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电解抛光设备
电解抛光原理主要有黏膜理论为基本理论。该理论主要为：工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面，这种黏膜在凸起处较薄、凹处较厚、因为凸起处电流密度高而溶解快、随黏膜流动，凹凸不断变化，以使工件粗糙表面逐渐被整平的过程。

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