旋转靶磁控反应溅射镀膜机-佳工网

旋转靶磁控反应溅射镀膜机
旋转靶磁控反应溅射镀膜机是一种新型的表面处理设备。适用于瓷质的雕塑品、餐具、洒具、瓷砖等，膜层色泽金黄、耐酸碱盐、无毒无味，具有很高的耐磨特性，称之为钛金膜层。也可在塑料、玻璃等材料表面镀制金属膜层。

主要技术参数

1、工作室尺寸：1200×1250（mm）。
2、极限空间：2×103帕（清洁空间）。
3、恢复真空时间：从大气抽至2×10-2≤15分钟（清洁空载）。
4、旋转靶最大功率：30kw可调。
5、工件回转直径：500mm×8轴。
6、名义总功率：70KVA
7、总重：3吨。
8、占地面积：3×4×3m。

联系方式
锦州天虹高新技术工程有限责任公司
地址：锦州高新区雨露街13号
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