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扩散炉系列
扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。
在现代工业中，扩散炉常常用于半导体器件的扩散、氧化退火、烧结等工艺设备，也可作为磁性材料的烧结工艺，还可适用于机械行业的淬火，冶金业稀土烧结工艺。
产品特点：
新型炉体设计，提高了温度稳定性；配合高精度温控仪的使用，保证工艺过程中温度的快速稳定。
主机为水平一至四管炉系统构架，独立完成不同的工艺或相同工艺 。
工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制。
采用悬臂送片器：操作方便、无摩擦污染。
工艺管路阀门管件组成气密性好、耐腐蚀、无污染（管路均采用EP级电抛光管路），流量控制采用质量流量计（MFC）进口。
具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能。
联系方式
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地址：青岛市北区郭口路临字46号
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