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东莞嘉诚水处理设备有限公司
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多功能EDI装置 s12-201286
一，EDI过程：

一般城市水源中存在的钠，钙，镁，氯化物，硝酸盐，碳酸氢盐等溶解物。这些化合物由带负电荷的阴离子和带正电荷的阳离子组成。通过反渗透（RO）的处理，98%以上的离子可以被去除。RO纯水（EDI给水）电阻率的一般范围0.05-1.0MΩ•CM，即电导率的范围为20-1μS/CM。 根据应用的情况，去离子水电阻率的范围一般为1-18.2 MΩ•CM。另外，原水中也可能包括其它微量元素，溶解的气体（例如CO2）和一些弱电解质（例如硼，二氧化硅），这些杂质在工业除盐水中也必须被除掉。但是反渗透过程对于这些杂质的清除效果较差。 离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近，可以使特定的离子迁移。
阴离子交换膜只允许阴离子透过，不允许阳离子透过；而阳膜只允许阳离子透过，不允许阴离子透过。在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成了一个EDI单元。阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。将一定数量的EDI单元罗列在一起，使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列，并使用网状物将每个EDI单元隔开，形成浓水室。在给定的直流电压的推动下，在淡水室中，离子交换树脂中阴阳离子分别在电场作用下向正/负极迁移，并透过阴阳离子交换膜进入浓水室，同时给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由于离子电迁移而留下的空位。事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。通过这样的过程，给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。
带负电荷的阴离子（例如OHˉ,CIˉ）被正极(+)吸引而通过阴离子交换膜,进入到邻近的浓水室中。此后这些离子在继续向正极迁移中遇到邻近的阳离子交换膜，而阳离子交换不允许其通过，这些离子即被阻隔在浓水中。淡水流中的阳离子（例如Na+,H+）以类似的方式被阻隔在浓水中。 沈阳电镀超纯水设备,EDI超纯水设备,沈阳工业超纯水设备
二、光电行业用超纯水，纯水设备，超纯水设备对水质的要求：

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

三、应用场合：

☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品
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