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光催化氧化设备生产厂家 UV光解设备价格  （点击图片放大） 一、设备用途介绍： 本产品主要用于处理工业废气中的各种有毒有害气体，裂解恶臭气体如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、非甲烷总烃、甲醛、芳香烃、硫醚、VOC类，苯、甲苯、二甲苯、吲哚、硝基的分子键，使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物，如CO2、H2O等。 二、设备技术介绍： 2-1：UV紫外线——促进列解 由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至最终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也彻底分解。 2-2：172微波——内部穿透发热，促进拆分分子结构 172光波利用紫外光照射有机物表面，172波长的紫外光被物体表面吸收后，有机物分子结构的DNA核酸产生大量的热量，分子链吸收光波涨大断裂，而大气中的氧气在吸收了波长为172nm的紫外光子后氧分子的原子氧极其活泼，这些原子氧会与被切断的有机物原子结合，并将之游离成的氧能基（如-OH，-CHO，-COOH），促进分子的再次新组合。 2-3：最后通过足量的臭氧进行氧化——生成二氧化碳和水 臭氧去除污染物的基本过程 过程一：高能电子的直接轰击 过程二：O原子或臭氧的氧化 O2+e→2O 过程三：OH自由基的氧化索H2O+e→OH+H H2O+O→2OH H+O2→OH+O 2-4：最后通过足量的臭氧进行氧化——生成二氧化碳和水 有机废气→微波+光解＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3→CO2+H2O(达标排放), |
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