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武汉高盛光电科技有限公司
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薄膜太阳能电池激光刻膜机
应用领域 非晶硅膜系太阳能电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）非晶硅膜（a-Si 、μc-Si）、背电极膜（ZnO、AL）等的激光刻膜（刻线、切割）其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni 薄膜、碲化CdTe薄膜）

产品特点

l 高速气浮工作台：膜面朝上运行；自动识别跟踪定位

l 直线电机驱动；自动湿度补偿；半导休端面泵浦光纤耦合激光器

l 四光路同步输出；自动进出料自动上下料；静态显示（动态观察）

技术指标

型号规格 GSF-P1 GSF-P2 GSF-P3

激光波长 1064nm 532nm 532nm

有效加工幅画 1.1×1.4m (635×1245mm)

最大运行速度 2000mm/s

平均刻膜速度 800-1500mm/s

重复定位精度 ± 10μm

运动直线度 ± 10μm/1000mm

最小刻膜线宽 30-60μm

三线外沿总宽度 300-400μm

选配
特殊尺寸规格和特殊技术要求定制
联系方式
武汉高盛光电科技有限公司
地址：湖北省武汉市东湖新技术开发区武大园16号
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