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| I-Scan压力分布分析系统在化学机械抛光（CMP）中的应用 | |
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化学机械抛光需要一个完美的平滑面，否则随后的加工过程将会受到不利影响，给您的企业造成损失！美国Tekscan公司生产的I-Scan系统能够在抛光过程中，瞬间捕获抛光头在晶片上所产生的压力状况。如果存在不均匀的压力，I-Scan将会以彩色的2-D和3-D图像显示出来。仪器校正后，再次测量压力的均匀度。该项获得专利的薄膜传感器，在这种应用中配合简便，并能使环境干扰最小化，从而测得真实的压力状态。传感器具有多种形状，可以重复使用，且读数准确。我们拥有高质量的销售和工程支持团队，将会根据您的需求提供相匹配的配置。 （图片） （图片） | |
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