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模具涂层术语
IonBond
ADLC
无定形金刚石硬质合金材料含有大量的 SP3 而且具有所需的金刚石和石墨的优良性能。
批次
一个批次指能在同一炉,同一时间进行涂层的零件组
阴极
阴极是一个 PVD 术语,通常指阴极源或靶材,更严格地说指阴极,是靶材安装的极板,并在涂层工序中发生气化。
CVA
铝化化学气相沉积过程扩散铝合金到部件表面,提高抗高温能力,防腐和抗氧化性能。
CVD
化学气相沉积过程是由反应气体通过化学反应进行涂层沉积,在标准的 CVD 情况下,该反应在 800 — 1050 ℃的高温下进行。
工艺时间
涂层时间是一个完整的过程,从一批次装载到涂层、冷却和卸载。
微米
微米是百万分之一米
PACVD
离子活化 CVD 或离子加强 CVD ,这是 CVD 的低温(低于 200 ℃)的加工过程,在 PACVD 情况下,通过 RF 电源进行气体反应。
PECVD
离子加强 CVD
PVD
物理气相沉积是在涂层设备炉膛,通过靶材的气化沉积涂层的物理过程。
源是 PVD 术语,它是一种装置,用来装夹靶材,同时包括触发器,磁体,壳体和冷却系统,源有时指阴极。
sp2
硬质合金原子类似于石墨
sp3
硬质合金原子类似于天然金刚石
基体
涂层是的基体材料
靶材
target 是 PVD 术语,指被气化的金属材料,靶材与源一起通常范指阴极或源。 8/14/2008


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