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半导体和液晶显示生产线需要使用大功率同时有很高精度的温度控制设备来保证芯片产品的精度和工艺的稳定性，因此对于实现工艺要求的各种设备都有严格的技术指标。德国优莱博公司（Julabo）的产品能够满足各种需求。
中国的半导体制造业近年来有了巨大的发展，半导体和液晶显示生产线需要使用大功率，同时有很高精度的温度控制设备来保证芯片产品的精度和工艺的稳定性。因此对于实现工艺要求的各种设备都有严格的技术指标。德国优莱博公司是世界领先的温度控制设备制造商，其产品线丰富，质量可靠，能够满足各种需求。
在半导体芯片制造的前道和后道工艺流程都需要高精度的温度控制。前道的加热和制冷需求主要在刻蚀、光刻、扩散、物理/化学气相积淀、氧化、湿法处理等环节，功率和温度范围要求各异；测试流程也需要高温和低温的环境来进行元件的温度冲击试验。前道工艺中需要较多的是恒温条件，测试中会需要在短时间内升高和降低温度的大功率加热和冷却设备。这两方面优莱博都有优秀的产品。 （图片）
图1 Julabo SemiChill系列半导体制冷器Julabo SemiChill 系列再循环冷却器专门为半导体工业恒温控制设计，提供5个基本型号，最大功率达10kW以上。优莱博产品采用全新的模块化设计，用户可以根据自己的需要灵活增减所需要的功能。优莱博高品质的产品适合在工业生产环境下长时间工作。该产品选用节省空间的塔式设计，减少设备占地面积，具有紧急情况电源切断、高低温报警和低液位报警、泵压显示等功能，所有与液体接触部件均由不锈钢或高品质塑料制成，而且采用低噪音设计。有多种浴液可选：水、水-甘油、去离子水、硅油、3M Flourinerts、 Galden、乙醇等。专为半导体工业配套微过滤器和去离子过滤器，提供三种控制模式，可以和Fab的控制网络联网。（图片）
图2 Julabo FL系列大功率制冷循环器Julabo最新的FL产品系列有20多种型号，大量的可选配置可以满足用户在不同层次的要求。紧凑型的产品设计，最大制冷功率达1.7kW，适合实验室的要求，体积小巧，外型美观，可以直接放在实验台上；大功率的设备可以达到11kW，工作温度范围为-20～40℃。设备采用塔式设计, 侧面没有通风换气隔栅，设备可以侧面相互紧挨连续摆放。内置的把手和脚轮方便设备搬运。所有设备都具有LED温度显示集成一体的防水键盘，液位指示功能。与液体接触部件均由不锈钢或高品质塑料制成，可以满足半导体制造业对于冷媒组分的要求。可掀起防护罩，内部有方便的防溅加液口，前面板上具有方便接插的RS232接口和模拟报警输出。该系列最大的优点在于它具有Julabo产品系列中最宽的泵功率范围，四级可调节泵压可以达到6 bar 的最大压力，80L/min的流量，1bar以上的设备均配有压力表显示泵压。（图片）
图3 Julabo PrestoLH快速动态温度控制系统Julabo Presto LH快速动态温度控制系统适用于高精度的外部应用，是Julabo的最新循环器。所有Presto循环器产品的浴槽都有声光报警，加热制冷效果极快，可以在短时间内将需制冷的物质在任意温度下降低到-80℃的范围。其工作温度范围为-85～250℃，全程不需要更换介质。具有高精度性、高速性和很宽的温度范围，功率强大，体积小巧。
此外，优莱博还有很多其他产品，例如MOCVD专用的FS20和FS30系列产品，以及各种功率和尺寸的恒温水浴和循环器。通过与其他产品配合，优莱博还可以按照用户的需求配置特殊需求的换热设备，为用户提供整套的温度控制解决方案。
3/23/2007
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