|
| |
| PAMOCVD装置及技术介绍 | |
| 武汉市等离子体技术研究所 | |
| 为节省流量，手机版未显示文章中的图片，请点击此处浏览网页版 | |
|
一、概述
PAMOCVD为“等离子体增强金属有机物化学气相沉积”技术之简称，PAMOCVD装置可用于：
1、CVD TiN涂层，表面呈金黄色，对高速钢，其硬HV1500~2000；
2、PAMOCVD Ti（CON）涂层，使金属同时具有化合物层和扩散层，膜基结合牢固。表面呈黑灰色略显黄，金属硬度可达HV1300~1500；
3、离子渗氮和多元渗，金属硬度可达HV1100左右。
涂层处理件包括：工模具、轴承、齿轮等结构件，各种有色金属件和硬质合金件，也可作装饰涂层。
Ti有机物对金属作硬质涂层可解决用TiCl4涂层对真空炉体的腐蚀，且工艺稳定。这是金属件表面改性的最新技术之一。
二、设备规格
功率：30Kw~50Kw
电压：0~2000V可调
镀膜室：Φ800×900mm（具体尺寸可根据用户要求订制）
极限真空：1×10-2mmHg
最大处理工件：400×400×600mm3
使用温度：480~700℃
微机控制参数：真空度；温度；气体流量；气体比例；时间。
三、设备系统
设备包括：
1、直流脉冲电源；
2、真空炉体；
3、真空系统；
4、进气系统；
5、气体净化系统等。
如下图所示 （图片） | |
|
武汉市等离子体技术研究所 (点击访问) 电话：86-27-82930191 地址：武汉市江岸区韦桑路(华工汉口分院宿舍) | |
| 电脑版 | 客户端 | 关于我们 |
| 佳工机电网 - 机电行业首选网站 | ||